3-(三甲基硅烷基乙炔基)噻吩（3-[(Trimethylsilyl)ethynyl]thiophene / Trimethyl(thiophen-3-ylethynyl)silane），CAS 130995-13-0，分子式 C9H12SSi，分子量 180.34，MDL MFCD04039959。

物化数据：

纯度：≥98.0%（GC）

外观：白色至橙绿/浅黄粉末、块状或低熔固体

熔点：36–41 ℃（lit.）；参比约 38 ℃

沸点：约 203.6 ℃（760 mmHg）

闪点：约 77–89 ℃（闭杯）

密度：约 0.99–1.00 g/cm³（20 ℃）

折射率：n20/D 1.516–1.520

LogP：约 2.98–3.93

PSA：28.2

蒸汽压：约 0.4 mmHg（25 ℃）

溶解度：不溶于水；溶于芳烃、醚、卤代烃、THF等有机溶剂

特性：噻吩 3-位炔基硅保护体，C≡C-SiMe₃ 可温和脱保护得端炔，位次不可互换；空气/湿敏感，避光充惰气

储存条件：密封、避光、充惰气（氮/氩），2–8 ℃ 或阴凉暗处，严格防潮

安全信息：

海关编码：2934999090

危险品运输编码：NONH（常按可燃液体/刺激品管理）

GHS07：H227；H315；H319；H335

安全说明：P210；P261；P264；P271；P280；P302+P352；P305+P351+P338

防护：耐溶剂手套、护目镜/面屏、防毒口罩，防爆通风，禁近湿气与明火

产品优势：

噻吩端炔硅保护砌块，3-位炔基位点明确、脱硅即得高活性端炔，可作为 Sonogashira 偶联与噻吩共轭低聚物/高分子（OTFT、OPV 材料）合成前体、有机光电与半导体材料构建单元、杂环碳-碳键延伸反应模型底物，以及工艺开发用稳定化炔基硅烷参考化合物（仅供工业/科研用途）。